同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用

人工晶体学报 ›› 2000, Vol. 29 ›› Issue (2): 180-187.

同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用

蒋建华

中国科学院高能物理研究所,北京,100039

出版日期:2000-02-15 发布日期:2021-01-20

Application of Synchrotron Radiation X-ray Topography in the Research of Defects and Crystals Growth

JIANG Jian-hua

Online:2000-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 本文介绍了同步辐射光源的特点,以及在应用于X射线形貌术时带来的各种好处.并通过介绍在北京同步辐射装置上所做的若干实验成果,扼要叙述了同步辐射X射线形貌术在晶体缺陷研究和晶体生长中的应用.

中图分类号:

O774

蒋建华. 同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用[J]. 人工晶体学报, 2000, 29(2): 180-187.

JIANG Jian-hua. Application of Synchrotron Radiation X-ray Topography in the Research of Defects and Crystals Growth[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2000, 29(2): 180-187.

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同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用

Application of Synchrotron Radiation X-ray Topography in the Research of Defects and Crystals Growth

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