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人工晶体学报 ›› 2002, Vol. 31 ›› Issue (5): 481-485.

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Fe-Ti-N薄膜的结构和性能研究

李丹;顾有松;常香荣;李福燊;乔利杰;田中卓   

  1. 北京科技大学材料物理系,北京,100083
  • 出版日期:2002-10-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(19890310)

Structure,Properties and Thermal Stability of the Fe-Ti-N Films

  • Online:2002-10-15 Published:2021-01-20

摘要: Fe-Ti-N薄膜在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备,膜厚为630~780nm.当氮含量在Fe-Ti(3.9at.;)-N(8.8at.;) 和 Fe-Ti(3.3at.;)-N(13.5at.;)范围内,薄膜由α′和Ti2N沉淀组成,4πMs超过纯铁,最高可达2.38T;而 Hc下降为89A/m,可以满足针对10Gb/in2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.

关键词: Fe-Ti-N薄膜;结构;磁性

中图分类号: