不同氧压下脉冲激光沉积LiCoO2薄膜的研究

人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (2): 500-503.

不同氧压下脉冲激光沉积LiCoO2薄膜的研究

刘德生;钟淑英;杜燕兰;胡军平;叶志清;雷敏生

江西师范大学物理与通信电子学院,南昌,330022

出版日期:2008-04-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(10564002);江西省自然科学基金(0512017);江西省教育厅科研项目([2005]73)

Study of LiCoO2 Thin Film Grown under Different Oxygen Pressure by Pulsed Laser Deposition

LIU De-sheng;ZHONG Shu-ying;DU Yan-lan;HU Jun-ping;YE Zhi-qing;LEI Min-sheng

Online:2008-04-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 使用脉冲激光沉积(PLD)法,在不同的氧压下制备了锂离子二次电池正极材料LiCoO2的薄膜.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等分析测试方法,对沉积的薄膜进行了晶体结构和表面形貌的分析.结果显示,氧压达到正常标准时(加Pa),LiCoO:薄膜具有明显的c轴择优取向,同时薄膜的晶粒尺寸更为均匀,表面更为光滑.而氧压较低(1 Pa)时,薄膜表现为随机取向.这些结果表明,PLD方法制备LiCoO2薄膜时应该充分考虑腔体气压对等离子体的散射作用以提高薄膜表面的质量.

中图分类号:

O484

刘德生;钟淑英;杜燕兰;胡军平;叶志清;雷敏生. 不同氧压下脉冲激光沉积LiCoO2薄膜的研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(2): 500-503.

LIU De-sheng;ZHONG Shu-ying;DU Yan-lan;HU Jun-ping;YE Zhi-qing;LEI Min-sheng. Study of LiCoO2 Thin Film Grown under Different Oxygen Pressure by Pulsed Laser Deposition[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(2): 500-503.

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