圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较

人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (4): 895-900.

圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较

WANG Feng-ying;郭会斌;TANG Wei-zhong;吕反修

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083

出版日期:2008-08-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(10675017)

Simulation and Comparison of Microwave Plasma in Cylindrical and Ellipsoidal Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition Cavity

WANG Feng-ying;GUO Hui-bin;TANG Wei-zhong;LU Fan-xiu

Online:2008-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱形和椭球形谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积设备中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态.对不同的微波输入功率、不同气体压力条件下,两种谐振腔式设备中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟.模拟结果表明,椭球形谐振腔的质量因子要高于圆柱形谐振腔;并且,椭球形谐振腔更适合用于高功率、高压力的金刚石膜沉积环境.这意味着,使用椭球形谐振腔,可获得更高的金刚石膜生长速率.

中图分类号:

O484

WANG Feng-ying;郭会斌;TANG Wei-zhong;吕反修. 圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(4): 895-900.

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