恒电压沉积SmS光学薄膜

人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (4): 962-966.

恒电压沉积SmS光学薄膜

CAO Li-yun;黄剑锋;MA Xiao-bo;贺海燕;WU Jian-peng

陕西科技大学材料科学与工程学院,西安,710021

出版日期:2008-08-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
教育部跨世纪优秀人才培养计划(NCET-06-0893)

SmS Optical Thin Films Prepared by Electrodeposition Process with Constant Voltage

CAO Li-yun;HUANG Jian-feng;MA Xiao-bo;HE Hai-yan;WU Jian-peng

Online:2008-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在ITO玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了沉积电压和热处理温度对于薄膜的物相组成、显微结构和光学性能的影响.结果表明:在n(S):n(Sm)=4:1,溶液pH值为3.0,沉积电压为10 V以及热处理温度为400℃的条件下,可制备出主晶相为SmS且表面比较平整的薄膜.热处理后薄膜的禁带宽度增加.随着沉积电压的增加,SmS逐渐由金属相向半导体相转变,薄膜的禁带宽度相应地变大.

中图分类号:

O484

CAO Li-yun;黄剑锋;MA Xiao-bo;贺海燕;WU Jian-peng. 恒电压沉积SmS光学薄膜[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(4): 962-966.

CAO Li-yun;HUANG Jian-feng;MA Xiao-bo;HE Hai-yan;WU Jian-peng. SmS Optical Thin Films Prepared by Electrodeposition Process with Constant Voltage[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(4): 962-966.

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