VHF-PECVD制备微晶硅薄膜的微结构研究

人工晶体学报 ›› 2009, Vol. 38 ›› Issue (1): 231-234.

VHF-PECVD制备微晶硅薄膜的微结构研究

张丽伟;余泽通;杨根;卢景霄

新乡学院,新乡,453003;郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052;河南科技学院机电学院,新乡,453003;郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052

出版日期:2009-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
河南省教育厅自然科学基金(2008C140001)

Study on the Microstructure of Microcrystalline Silicon Thin Films by VHF-PECVD

ZHANG Li-wei;YU Ze-tong;YANG Gen;LU Jing-xiao

Online:2009-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 用甚高频等离子体化学气相沉积(VHF-PECVD)法在玻璃衬底上低温制备了不同沉积时间微晶硅薄膜.用拉曼散射光谱仪、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等表征手段对薄膜的微观结构进行了研究.研究结果表明:随着沉积时间的延长,薄膜呈岛状生长,薄膜晶粒度在微晶核形成后迅速升高并逐渐饱和;其微观结构经历了"非晶相→非晶/微晶混合相→微晶相"的演变过程.本实验制备的微薄膜仍以(111)为优化取向.

中图分类号:

O484

张丽伟;余泽通;杨根;卢景霄. VHF-PECVD制备微晶硅薄膜的微结构研究[J]. 人工晶体学报, 2009, 38(1): 231-234.

ZHANG Li-wei;YU Ze-tong;YANG Gen;LU Jing-xiao. Study on the Microstructure of Microcrystalline Silicon Thin Films by VHF-PECVD[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2009, 38(1): 231-234.

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