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人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (1): 130-135.

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射频磁控溅射生长ZnO薄膜及性能研究

朱华;刘辉文;况慧芸;冯晓炜   

  1. 景德镇陶瓷学院机电学院,景德镇 333001;景德镇陶瓷学院科技艺术学院,景德镇 333001;景德镇陶瓷学院机电学院,景德镇,333001;景德镇陶瓷学院科技艺术学院,景德镇,333001
  • 出版日期:2012-02-15 发布日期:2021-01-20

Properties of ZnO Thin Film Grown by RF Magnetron Sputtering

ZHU Hua;LIU Hui-wen;KUANG Hui-yun;FENG Xiao-wei   

  • Online:2012-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底生长ZnO及ZnO∶ Al薄膜,通过改变氩氧比、衬底温度和溅射功率获得样品.用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、扫描电子显微镜进行表征.结果发现:室温下40W的溅射功率1h的溅射时间,改变氩氧比获得样品.XRD图谱中无明显衍射峰出现;紫外可见光分光光度计测试结果显示400nm波长以下,透光率在90;以上.说明薄膜生长呈无定形.衬底温度高于200℃样品,XRD有明显(002)衍射峰出现,在400~ 800 nm波长范围,透光率在88;以上,衬底温度300℃时,XRD衍射峰半高宽最小,晶粒尺寸大.TEM显示:衬底300℃晶粒尺寸最大,晶体发育好.在200℃掺铝ZnO薄膜,(002)峰不明显,有(101)峰出现.

关键词: ZnO薄膜;透过率;磁控溅射

中图分类号: