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人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (3): 733-736.

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电沉积过程中Cl-对Cu2O晶粒形貌的影响

赵文燕;田传进;谢志鹏;汪长安;李月明   

  1. 景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,景德镇,333403;景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,景德镇333403;清华大学材料科学与工程系,北京100084
  • 出版日期:2012-06-15 发布日期:2021-01-20

Influence of Cl- on the Morphology of Cu2O Films in Electrodeposition Processing

ZHAO Wen-yan;TIAN Chuan-jin;XIE Zhi-peng;WANG Chang-an;LI Yue-ming   

  • Online:2012-06-15 Published:2021-01-20

摘要: 在酸性溶液中,以透明导电玻璃(ITO)为工作电极,Pt网为对电极,电化学沉积制备了Cu2O颗粒膜.利用了X射线衍射(XRD)研究了Cu2O的结构,扫描电子显微镜(SEM)研究了添加剂对晶粒形貌的影响,并对晶体的生长机制进行了讨论.结果表明,由于Cl-在Cu2O不同晶面的选择吸附作用,随Cl-浓度的增加,Cu2O的形貌由树枝状结构逐渐向立方结构过渡.

关键词: Cu2O;电沉积;形貌;生长机制

中图分类号: