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人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (4): 936-941.

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氨水浓度对化学浴沉积的Zn(O,S)薄膜形貌、结构和性能的影响

刘军;魏爱香;招瑜;刘俊;庄米雪   

  1. 广东工业大学材料与能源学院,广州,510006
  • 出版日期:2012-08-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广东省省部产学研项目(2011A090200003);广州市科技计划项目(12C52111614)

Influence of Ammonia Concentration on Morphology, Structure and Properties of Zn( O, S) Films Prepared by Chemical Bath Deposition

LIU Jun;WEI Ai-xiang;ZHAO Yu;LIU Jun;ZHUANG Mi-xue   

  • Online:2012-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用化学浴法,以ZnSO4·7H2O和SC( NH2)2作为反应前驱物,C6H5O7 Na3·2H2O作为络合剂,NH3·H2O 作为辅助络合剂和缓冲剂制备Zn(O,S)薄膜.采用SEM、EDS、XPS、XRD和透射光谱分析方法,研究氨水浓度对化学浴法制备的Zn(O,S)薄膜形貌、成分、结构和光学性能的影响以及Zn(O,S)薄膜的形成机理.结果表明:Zn(O,S)薄膜是由ZnO和ZnS纳米颗粒混合组成的,ZnO具有纤锌矿结构,ZnS是以非晶相存在.随着反应溶液中氨水浓度的降低,薄膜中所包含的ZnO逐渐减少,ZnS逐渐增加,S/Zn原子比逐渐增加,透射率和光学带隙也逐渐增大.

关键词: Zn(O,S)薄膜;化学水浴法;透射率;光学带隙

中图分类号: