直流反应磁控溅射法制备ZnO: Zr透明导电薄膜

人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (4): 977-981.

直流反应磁控溅射法制备ZnO: Zr透明导电薄膜

张化福;类成新;刘汉法;袁长坤

山东理工大学理学院,淄博,255049

出版日期:2012-08-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
the Natural Science Foundation of Shandong Province(ZR20O9GQ011)

Preparation of Transparent Conducting ZnO∶ Zr Films Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering

ZHANG Hua-fu;LEI Cheng-xin;LIU Han-fa;YUAN Chang-kun

Online:2012-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 以Zn∶ Zr为靶材,利用直流反应磁控溅射法制备了ZnO∶ Zr透明导电薄薄膜.研究了沉积压强对ZnO∶ Zr薄膜形貌、结构、光学及电学性能的影响.实验结果表明所制备的ZnO∶ Zr为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.沉积压强对ZnO∶ Zr薄膜的晶化程度、形貌、生长速率和电阻率影响很大,而对其光学性能如透光率、光学带隙及折射率影响不大.当沉积压强为2Pa时,ZnO∶ Zr薄膜的电阻率达到最小值2.0×10-3Ω ·cm,其可见光平均透过率和平均折射率分别为83.2;和1.97.

中图分类号:

张化福;类成新;刘汉法;袁长坤. 直流反应磁控溅射法制备ZnO: Zr透明导电薄膜[J]. 人工晶体学报, 2012, 41(4): 977-981.

ZHANG Hua-fu;LEI Cheng-xin;LIU Han-fa;YUAN Chang-kun. Preparation of Transparent Conducting ZnO∶ Zr Films Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2012, 41(4): 977-981.

[1]	李阳, 曹昆, 介万奇. 热处理GaSb衬底对近距离升华法制备CdZnTe外延膜的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(10): 1705-1711.
[2]	康杰, 丁紫阳, 王晓燕, 李连荣, 孙为云, 焦璨, 宋月鹏. 腐蚀法制备SiC量子点粒径调控及尺寸对其光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(4): 684-691.
[3]	李传皓, 李忠辉, 彭大青, 张东国, 杨乾坤, 罗伟科. 大尺寸GaN微波材料范德瓦耳斯外延机理及应力调控研究[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(2): 252-257.
[4]	聂凡, 韩硕, 曾冬梅. 双轴应变对单层CdZnTe电子特性和光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(8): 1394-1399.
[5]	宋长坤, 黄晓莹, 陈英鑫, 喻颖, 余思远. 半导体单量子点的分子束外延生长及调控[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(6): 982-996.
[6]	彭大青, 李忠辉, 蔡利康, 李传皓, 杨乾坤, 张东国, 罗伟科. 基于复合势垒的AlGaN/GaN异质结材料的制备与性能研究[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(5): 746-752.
[7]	张君华, 贾志刚, 董海亮, 臧茂荣, 梁建, 许并社. AlGaInN/InGaN应变补偿DBR结构设计[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(3): 452-459.
[8]	路淑娟, 陈蓓曦, 张路, 曹波, 张云博, 马志永, 齐兴旺, 于洪国. 红外LED用GaAs单晶的垂直梯度凝固制备研究[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(2): 235-243.
[9]	娄艳芳, 巩拓谌, 张文, 郭钰, 彭同华, 杨建, 刘春俊. 8英寸导电型4H-SiC单晶衬底制备与表征[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(12): 2131-2136.
[10]	刘国峰, 左然. GaN-MOVPE气相自由基反应的量子化学研究[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(3): 469-476.
[11]	程红娟, 金雷, 武红磊, 齐海涛, 王增华, 史月曾, 张丽. AlN单晶生长行为研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(11): 2200-2205.
[12]	刘兵;蒲红斌;赵然;赵子强;鲍慧强;李龙远;李晋;刘素娟. 高品质6英寸N型4 H-SiC单晶生长研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(4): 570-575.
[13]	兰天平;边义午;周春锋;宋禹. VGF法半绝缘GaAs单晶EL2浓度优化研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(3): 412-416.
[14]	牛楠楠;左然. AlN的MOCVD生长中表面吸附的量子化学研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(7): 1268-1274.
[15]	李凡生;余小英;唐文翰;房慧;王如志. TiO2材料(100)典型晶面的形成与电子结构的研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(4): 611-615.