摘要: 使用光刻的方法进行ITO电极的制作,可制得精细的电极结构,本文重点阐述了使用光刻制备ITO电极的方法,包括表面清洗、曝光参量、显影条件、腐蚀工艺等,其中较为理想的ITO光刻工艺为:50 s曝光时间、30 s显影时间、20s化学腐蚀时间.并用对腐蚀工艺条件进行了理论分析,并使用光学相干断层扫描(OCT)技术对制备的电极进行了测量.
中图分类号:
刘桂林;朱华新;郭颖;严慧敏;李果华. 聚合物太阳电池ITO电极的光刻制备[J]. 人工晶体学报, 2012, 41(6): 1549-1553.
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