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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (4): 967-971.

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高气压高功率条件下MPCVD法制备金刚石单晶

史玉芬;周学芹;李坤;刘小利   

  1. 常州大学材料科学与工程学院,常州213164;常州宝颐金刚石科技有限公司,常州213022;常州大学材料科学与工程学院,常州,213164;常州宝颐金刚石科技有限公司,常州,213022
  • 出版日期:2015-04-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(51372044)

Synthesis of Diamond Single Crystal by MPCVD at High Gas Pressure and High Microwave Power

SHI Yu-fen;ZHOU Xue-qin;LI Kun;LIU Xiao-li   

  • Online:2015-04-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用自主研发的圆柱谐振腔式MPCVD设备,在工作气压28 kPa,微波功率5 kW的条件下成功制备金刚石单晶,并采用光学显微镜、激光拉曼谱(Raman)技术对样品进行表征.结果表明,在高气压高功率条件下单晶的沉积速率高达26 μm/h,且表面形貌平整.

关键词: 金刚石单晶;沉积速率;MPCVD

中图分类号: