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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (12): 3559-3564.
郑燕;李云;王新占;刘建苹;张瑜;于威;赖伟东;任丽坤
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RSS出版日期:2015-12-15
发布日期:2021-01-20
基金资助:
Online:2015-12-15
Published:2021-01-20
摘要： 采用等离子体增强化学气相沉积技术实现了nc-SiOx/SiO2多层结构薄膜在220℃的低温沉积,并对其450℃N2+ H2形成气体退火前后的微结构及其发光特性进行了研究.结果表明,直接沉积的纳米硅多层薄膜未观察到较明显的室温发光,而形成气体退火后样品出现峰值位于780 nm附近较强的光致发光,归因于活性氢能有效钝化纳米硅表面悬键,提高了材料的发光强度.结合瞬态发光谱分析,采用量子限制-发光中心模型可以合理解释纳米硅多层结构的发光特性.
中图分类号:
郑燕;李云;王新占;刘建苹;张瑜;于威;赖伟东;任丽坤. 氢钝化对低温沉积nc-SiOx/SiO2多层薄膜发光特性影响机制研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(12): 3559-3564.
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