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人工晶体学报 ›› 2016, Vol. 45 ›› Issue (4): 1017-1023.

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预制层衬底加热对Cu2ZnSnS4薄膜性能的影响

张俊芝;代福;范东华;郑春来   

  1. 五邑大学应用物理与材料学院,江门,529020;陕西理工学院物理与电信工程学院,汉中,723000
  • 出版日期:2016-04-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广东省教育厅科技创新项目(2013KJCX0181);广东省教育厅特色创新项目(2014KTSCX131);陕西理工学院校级科研项目(SLGKY15-25)

Effect of Substrate Heating on Cu2ZHSHS4 Thin Films Properties

ZHANG Jun-zhi;DAI Fu;FAN Dong-hua;ZHENG Chun-lai   

  • Online:2016-04-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文采用二步法制备Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜,首先通过真空热蒸发制备CuZnSn (CZT)预制层,其衬底加热温度分别为20℃、50℃、75℃和100℃,然后对所制备的CZT预制层在400℃下硫化60 min,从而制备出CZTS薄膜.利用XRD、Raman、SEM、反射谱和透射谱对所制备的CZTS薄膜进行了表征,实验结果表明,预制层衬底加热温度对CZTS薄膜结构与光学特性有很大影响,在衬底加热50℃时制备预制层硫化后所得CZTS薄膜具有高的结晶度、致密均匀的薄膜表面和最佳1.5 eV光学带隙.此外,与衬底未加热制备预制层在500℃和90 min最佳硫化条件下所制备的高纯CZTS薄膜相比,在50℃预制层衬底加热条件下所制备CZTS薄膜具有更好地结晶质量、更低的硫化温度和更短的硫化时间,这种现象表明衬底加热制备金属预制层利于更高品质CZTS薄膜的制备,可有效的降低硫化温度和缩短硫化时间,当前的研究结果为在低温下实现高质量CZTS薄膜的制备提供了一种有效的途径.

关键词: Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜;衬底加热;晶体性能

中图分类号: