人工晶体学报 ›› 2016, Vol. 45 ›› Issue (4): 1126-1130.
郭胜利;胡跃辉;胡克艳;陈义川;范建彬;徐承章;童帆
GUO Sheng-li;HU Yue-hui;HU Ke-yan;CHEN Yi-chuan;FAN Jian-bin;XU Cheng-zhang;TONG Fan
摘要: 在不同溅射压强下,通过射频(RF)磁控溅射在石英玻璃衬底上沉积得到W掺杂ZnO薄膜(WZO).对样品的结晶性能,表面形貌和光学性能进行测试分析,结果表明:在适当溅射压强下,薄膜具有良好的结晶性和光学性能.随着溅射压强的增加,薄膜的结晶性先变好后变差,晶粒尺寸先增大后减小,在1.0 Pa时薄膜的结晶性最好,且晶粒尺寸最大,约为32 nm;所有WZO薄膜样品的平均透光率超过80;;光致发光主要由本征发光和缺陷引起的蓝光发光组成,在1.0Pa时薄膜还有明显的Zn;缺陷,在1.2Pa时薄膜有明显的Oi缺陷.
中图分类号: