氟化钙晶体缺陷对应力双折射影响机制的研究

人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (6): 1049-1056.

氟化钙晶体缺陷对应力双折射影响机制的研究

郑金祥;李晓辉;吴庆辉;姜大朋;王静雅;张博;刘荣荣;梅炳初;苏良碧

武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉 430070;中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 200050;中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070

出版日期:2020-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金重点项目(61635012);国家自然科学基金(51432007)

Study on the Influence Mechanism of Defect on Stress Birefringence of CaF2 Crystal

ZHENG Jinxiang;LI Xiaohui;WU Qinghui;JIANG Dapeng;WANG Jingya;ZHANG Bo;LIU Rongrong;MEI Bingchu;SU Liangbi

Online:2020-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 氟化钙(CaF2)晶体具有紫外透过率高(>99;@193 nm)、抗激光损伤阈值高等特点,在高功率紫外激光器、深紫外光刻机等领域具有广泛的应用.应力双折射是氟化钙晶体在实际应用中的关键性能指标,会导致通过晶体的光束发生形变,严重影响成像质量.采用坩埚下降法制备了尺寸为φ210 mm的氟化钙晶体,系统研究了CaF2晶体的位错和小角度晶界以及结晶质量对晶体应力双折射的影响,实验结果表明,位错密度的增高、小角度晶界的聚集、结晶质量的变差,会引起局部残余应力的集中,加剧应力双折射现象.

中图分类号:

O734

郑金祥;李晓辉;吴庆辉;姜大朋;王静雅;张博;刘荣荣;梅炳初;苏良碧. 氟化钙晶体缺陷对应力双折射影响机制的研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(6): 1049-1056.

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