硅纳米线的制备及应用研究进展

人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (9): 1743-1751.

硅纳米线的制备及应用研究进展

胡德巍;唐安江;唐石云;韦德举;田合鑫

贵州大学化学与化工学院,贵阳 550025;贵州大学化学与化工学院,贵阳 550025;贵州理工学院化学工程学院,贵阳 550003;贵州理工学院化学工程学院,贵阳 550003

出版日期:2020-09-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(2176060184)

Research Progress on Preparation and Application of Silicon Nanowires

HU Dewei;TANG Anjiang;TANG Shiyun;WEI Deju;TIAN Hexin

Online:2020-09-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 介绍了硅纳米线在制备技术方面的最新进展,综述了硅纳米线两种不同的生长模式("自上而下"和"自下而上"),以及在两种生长模式下硅纳米线的制备方法,即化学气相沉积、分子束外延、激光烧蚀、氧化物辅助生长、溶液法、电子束光刻、纳米压印光刻和金属辅助化学刻蚀等,并对各种方法的优缺点进行了仔细叙述,总结了硅纳米线的两种典型生长方向(平面和垂直)的研究现状.最后阐述了近年来硅纳米线在电子器件、传感器件和太阳能电池的应用情况,并展望其发展趋势,为科研人员进一步开拓硅纳米线研究提供一定参考.

中图分类号:

胡德巍;唐安江;唐石云;韦德举;田合鑫. 硅纳米线的制备及应用研究进展[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(9): 1743-1751.

HU Dewei;TANG Anjiang;TANG Shiyun;WEI Deju;TIAN Hexin. Research Progress on Preparation and Application of Silicon Nanowires[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2020, 49(9): 1743-1751.

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