耐等离子刻蚀陶瓷的研究现状

人工晶体学报 ›› 2018, Vol. 47 ›› Issue (6): 1272-1279.

耐等离子刻蚀陶瓷的研究现状

谭毅成;伍尚华;朱佐祥;向其军;朱祖云;田卓

广东工业大学机电工程学院,广州 510006;商德先进陶瓷股份有限公司,深圳 518125;广东工业大学机电工程学院,广州,510006;商德先进陶瓷股份有限公司,深圳,518125

出版日期:2018-06-15 发布日期:2021-01-20

Research Status of Plasma Etching Resistance Ceramic

TAN Yi-cheng;WU Shang-hua;ZHU Zuo-xiang;XIANG Qi-jun;ZHU Zu-yun;TIAN Zhuo

Online:2018-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 等离子刻蚀技术是超大规模集成电路制备工艺中不可或缺加工技术.在半导体晶圆尺寸不断增大以及特征尺寸不断缩少的发展进程中,晶圆的污染问题越来越突出.而刻蚀机腔室材料作为晶圆的主要污染源之一,其耐等离子刻蚀性日益受到人们的关注.本文主要介绍耐等离子体刻蚀腔体材料的特性及目前国内外的研究与发展现状.

中图分类号:

TB332

谭毅成;伍尚华;朱佐祥;向其军;朱祖云;田卓. 耐等离子刻蚀陶瓷的研究现状[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(6): 1272-1279.

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