欢迎访问《人工晶体学报》官方网站，今天是 2025年9月19日 星期五
E-mail Alert　 RSS
分享到：
孪生对靶直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜及其特性研究
李微;孙云;何青;刘芳芳;李凤岩
Physical Properties of ZnO:Al Films by DC Magnetron Sputtering with Facing Targets
LI Wei;SUN Yun;HE Qing;LIU Fang-fang;LI Feng-yan
人工晶体学报 . 2006, (4): 761 -764 . 

网站版权 © 《人工晶体学报》编辑部
地址：北京市朝阳区东坝红松园1号　邮编：100018
电话：010-65491290　 Email：jtxbbjb@126.com
本系统由北京玛格泰克科技发展有限公司设计开发　技术支持：support@magtech.com.cn