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人工晶体学报 ›› 2002, Vol. 31 ›› Issue (5): 472-477.

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掺杂VO2薄膜的相变机理和光电特性研究

徐时清;赵康;马红萍;谷臣清;姜中宏   

  1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;西安理工大学材料科学与工程学院,西安,710048;浙江科技学院,杭州,310012
  • 出版日期:2002-10-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    陕西省自然科学基金(2000C32);陕西省教育厅资助项目(99JK228)

Study on Optical and Electrical Properties and Phase-transition of the Doped VO2 Thin Films

  • Online:2002-10-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文采用V2O5粉和MoO3粉为原料,通过无机溶胶-凝胶法制备掺Mo6+的VO2薄膜.实验采用XRD和XPS等研究手段,对掺杂薄膜的物相组成、价态、相变温度、电阻突变量级和相变前后的光透过率进行了测试.结果发现:所制备的掺杂薄膜其主要成份是VO2,掺入的MoO3结构未发生改变,掺杂薄膜随MoO3含量的增加其相变温度明显下降,但其电阻突变量级和光透过率的突变量亦随之降低,其中,电阻突变量级的下降趋势更显著,不过只要MoO3掺杂量不高于5;时,掺杂薄膜的电阻突变仍可保持2个量级以上,而且红外光透过率的突变量仍保持较高.分析认为,薄膜中掺入的MoO3与VO2可以互溶,从而可作为施主组元降低VO2能带结构中的禁带宽度,改变其光电特性.

关键词: VO2薄膜;掺杂;光电性能;无机溶胶-凝胶法

中图分类号: