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人工晶体学报 ›› 2002, Vol. 31 ›› Issue (6): 576-582.
汪爱英;纪爱玲;邹友生;孙超;黄荣芳;闻立时
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RSS出版日期:2002-12-15
发布日期:2021-01-20
基金资助:
Online:2002-12-15
Published:2021-01-20
摘要： 在热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算.结果表明,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后,管道壁温度分布的均匀性大大提高;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布.
中图分类号:
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