利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响

人工晶体学报 ›› 2003, Vol. 32 ›› Issue (1): 31-34.

利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响

赵朋;夏海瑞;孙大亮;卢贵武;郑文强

山东大学物理与微电子学院,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东大学晶体材料研究所,济南,250100

出版日期:2003-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(10274043);山东省自然科学基金(Y2001A06);山东省科技攻关项目(012120105)

HPCIM Investigation of the Effect of EDTA Additives on Growth Habit of KDP

Online:2003-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 利用全息相衬干涉显微术(HPCIM)研究了EDTA对KDP晶体(100)柱面和(101)锥面生长习性的影响.通过界面边界层宽度的变化,可以直观地观测到在溶液中添加少量的EDTA后,促使KDP晶体沿柱面和锥面的生长,特别是对柱面的影响更为显著,并对此作了解释.最佳的EDTA浓度范围有待于进一步研究.

中图分类号:

O734

赵朋;夏海瑞;孙大亮;卢贵武;郑文强. 利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响[J]. 人工晶体学报, 2003, 32(1): 31-34.

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利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响

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