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人工晶体学报 ›› 2003, Vol. 32 ›› Issue (1): 35-40.

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优质DKDP晶体的点状籽晶生长及其表征研究

刁立臣;常新安;臧和贵   

  1. 北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100022
  • 出版日期:2003-02-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    北京市教委科技发展计划项目(01KJ-012);北京市自然科学基金(2032005)

Study on the Growth with Point Seed and Characterization of High Quality DKDP Crystal

  • Online:2003-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文在研究DKDP溶液稳定性的基础上,采用Z切点状籽晶(5mm×5mm×3mm)生长了多块DKDP晶体,在250ml和1000ml生长瓶中分别获得了在[100]和[001]向生长速度可达到3mm/d和4.5 mm/d的点状籽晶生长优质DKDP晶体的生长条件.通过等离子体发射光谱(ICP)和紫外可见光谱分析发现DKDP晶体柱面的金属离子含量比锥面高,柱面的紫外可见吸收比锥面大.性能测试结果表明,点状籽晶全方位生长的DKDP晶体的激光损伤阈值约为5GW/cm2、半波电压约为4kV、动态消光比约为1600∶1,发现与传统方法生长晶体的性能没有明显的差别.

关键词: 溶液稳定性;DKDP晶体;晶体生长;点状籽晶;晶体性能

中图分类号: