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人工晶体学报 ›› 2003, Vol. 32 ›› Issue (4): 386-392.

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加氮对直流电弧等离子体喷射金刚石膜生长、形貌和质量的影响

杨胶溪;张恒大;李成明;陈广超;吕反修;唐伟忠;佟玉梅   

  1. 北京科技大学,北京,100083;山东科技大学,泰安,271019;北京科技大学,北京,100083
  • 出版日期:2003-08-15 发布日期:2021-01-20

Effects of Nitrogen Addition on Growth, Morphology and Quality of DC Arc Plasma Jet CVD Diamond Films

  • Online:2003-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用直流等离子体喷射化学气相沉积法制备掺氮的金刚石厚膜.本文研究了在甲烷/氩气/氢气中加入氮气对金刚石膜生长、形貌和质量的影响.反应气体的比例由质量流量计控制,在固定氢气(5000sccm)、氩气(3000sccm)、甲烷(100sccm)流量的情况下改变氮气的流量,即反应气体中氮原子和碳原子的变化比例(N/ C比)范围是从0.06到0.68.同时金刚石膜在固定的腔体压力(4kPa)和衬底温度(800℃)下生长.金刚石膜用扫描电镜(SEM)、拉曼谱和X射线衍射表征.结果表明,氮气在反应气体中的大量加入对直流等离子体喷射制备金刚石膜的形貌、生长速率、晶体取向、成核密度等有非常显著的影响.

关键词: 金刚石膜;氮气;形貌;晶体取向;成核密度

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