线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积

人工晶体学报 ›› 2005, Vol. 34 ›› Issue (5): 794-798.

线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积

黑立富;唐伟忠;樊凤玲;耿春雷;吕反修

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083

出版日期:2005-10-15 发布日期:2021-01-20

Diamond Coating Growth on Micro-drills by Using Linear-coaxially Coupled Microwave Plasma CVD Device

HEI Li-fu;TANG Wei-zhong;FAN Feng-ling;GENG Chun-lei;LU Fan-xiu

Online:2005-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 本文介绍了利用线形同轴耦合式微波等离子体CVD法在硬质合金微型钻头(微钻)上沉积金刚石涂层的初步实验结果.微型钻头的直径为0.5mm,其中WC晶粒的尺寸约为0.5μm.在沉积前,先用Murakami溶液(10gKOH+10gK3[Fe(CN)6]+100ml H2O)对微钻刻蚀10min,使其表面粗化,然后用硫酸-双氧水溶液(10ml98wt;H2SO4+100ml 38;m/vH2O2)对其浸蚀60s,以去除其表面的Co.在金刚石涂层过程中发现,由于微钻尖端在微波电磁场中产生较集中的辉光放电现象,因而在微钻尖端很难获得金刚石涂层.针对这种金刚石涂层过程中的"尖端效应",尝试使用了金属丝屏蔽的方法以改变微钻周围的微波电磁场分布,克服了上述金刚石涂层过程中的"尖端效应",首次成功地采用微波等离子体CVD法在微钻上沉积了厚度为1.5μm的金刚石涂层.

中图分类号:

O484

黑立富;唐伟忠;樊凤玲;耿春雷;吕反修. 线形同轴耦合式微波等离子体CVD法硬质合金微型钻头金刚石涂层沉积[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(5): 794-798.

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