摘要: 本文报导了用中频感应加热提拉法生长Ce3+:YAG晶体,直径达45mm.对样品采用不同的化学试剂进行了时间不等的腐蚀,用偏光显微镜观察到不同形貌的位错蚀坑,分析了位错与晶体结构及生长工艺参数等因素之间的关系.
中图分类号:
王召兵;张庆礼;殷绍唐;孙敦陆;苏静;张霞;邵淑芳. Ce3+:YAG晶体位错的研究[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(5): 861-864.
WANG Zhao-bing;ZHANG Qing-li;YIN Shao-tang;SUN Dun-lu;SU Jing;ZHANG Xia;SHAO Shu-fang. Study on Dislocation of Ce3+: YAG Crystal[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(5): 861-864.