薄膜结构性能变化中的

人工晶体学报 ›› 2005, Vol. 34 ›› Issue (5): 940-943.

薄膜结构性能变化中的"温度临界点"

张丽伟;卢景霄;李瑞;冯团辉;靳锐敏;张宇翔;李维强;王红娟

郑州大学材料物理教育部重点实验室,郑州,450052;新乡师范高等专科学校,新乡,453000;郑州大学材料物理教育部重点实验室,郑州,450052

发布日期:2021-01-20

Critical Temperature Point in the Changing Process of Thin Films' Structure and Properties

ZHANG Li-wei;LU Jing-xiao;LI Rui;FENG Tuan-hui;JIN Rui-min;ZHANG Yu-xiang;LI Wei-qiang;WANG Hong-juan

Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在"温度临界点",然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的"温度临界点".结果显示:薄膜结构性能变化中确实存在"温度临界点";在"温度临界点"前后薄膜结构性能的变化规律曲线出现拐点.进而推论:薄膜的结构性能在随温度变化中"温度临界点"可能不止一个.

中图分类号:

O447

张丽伟;卢景霄;李瑞;冯团辉;靳锐敏;张宇翔;李维强;王红娟. 薄膜结构性能变化中的"温度临界点"[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(5): 940-943.

ZHANG Li-wei;LU Jing-xiao;LI Rui;FENG Tuan-hui;JIN Rui-min;ZHANG Yu-xiang;LI Wei-qiang;WANG Hong-juan. Critical Temperature Point in the Changing Process of Thin Films' Structure and Properties[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(5): 940-943.