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人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (3): 630-634.

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分层沉积GaAs/SiO2纳米薄膜的结构和吸收光谱

朱慧群;丁瑞钦;王忆;吴桐庆   

  1. 五邑大学薄膜与纳米材料研究所,江门,529020;华南理工大学物理科学与技术学院,广州,510641
  • 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广东省自然科学基金(04011770);广东省江门市科技计划(江财企2003.61)

Micro-structure and Absorption Spectra of Multi-layer Deposited GaAs/SiO2 Nano-films

ZHU Hui-qun;DING Rui-qin;WANG Yi;WU Tong-qing   

  • Published:2021-01-20

摘要: 应用射频磁控溅射方法分别在抛光硅片和石英玻璃片上分层沉积了GaAs/SiO2纳米薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)及吸收光谱的测试,发现衬底温度、退火、氢掺杂等制备工艺对分层沉积的GaAs/SiO2纳米薄膜的微观结构和光学性质有明显的影响.本文对相关机理作了探讨.

关键词: 射频磁控溅射;GaAs/SiO2纳米薄膜;氢掺杂;吸收光谱

中图分类号: