热退火对ZnO-SiO2复合薄膜的微结构及荧光特性的影响

人工晶体学报 ›› 2007, Vol. 36 ›› Issue (1): 141-145.

热退火对ZnO-SiO2复合薄膜的微结构及荧光特性的影响

卢相甫;程文娟;马学鸣;石旺舟

华东师范大学物理系,上海,200062

出版日期:2007-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
上海市纳米科技专项基金(0652nm023)

Influence of Annealing Heat on the Microstucture and Fluorescent Characteristic of ZnO-SiO2 Composite Film

LU Xiang-fu;CHENG Wen-juan;MA Xue-ming;SHI Wang-zhou

Online:2007-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si衬底上制备了ZnO-SiO2复合薄膜.分别用SEM、XRD观察了样品在沉积态(300℃)及700℃和900℃下热退火后的形貌和结构.发现经700℃热处理后,样品中有第三相β-Zn2SiO4形成,经900℃热处理后的样品中硅锌矿型Zn2SiO4取代了β-Zn2SiO4成为第三相.研究了热退火处理前后样品的荧光特性变化,结果表明经700℃热处理后,荧光光谱与沉积态相比,紫外区域的发光强度有较大提高,可见光区域的宽带强度变弱;经900℃热处理后,紫外区域荧光强度与700℃处理相比略有减小,可见光发光带消失.

中图分类号:

O484

卢相甫;程文娟;马学鸣;石旺舟. 热退火对ZnO-SiO2复合薄膜的微结构及荧光特性的影响[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(1): 141-145.

LU Xiang-fu;CHENG Wen-juan;MA Xue-ming;SHI Wang-zhou. Influence of Annealing Heat on the Microstucture and Fluorescent Characteristic of ZnO-SiO2 Composite Film[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2007, 36(1): 141-145.

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