| [1] |
安康, 许光宇, 吴海平, 张亚琛, 张永康, 李利军, 李鸿, 张旭芳, 刘峰斌, 李成明. 金刚石化学机械抛光研究进展[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(10): 1675-1687. |
| [2] |
陈峰武, 吕文利, 龚欣, 薛勇, 巩小亮. 分子束外延设备国内外进展及展望[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(9): 1494-1503. |
| [3] |
谢贵久, 张文斌, 王岩, 宋振, 张兵. 碳化硅晶片减薄工艺对表面损伤的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(6): 967-972. |
| [4] |
初学峰, 黄林茂, 张祺, 谢意含, 胡小军. 铟锡氧(ITO)和氟锡氧(FTO)透明导电薄膜的表征与分析[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(5): 848-854. |
| [5] |
鲁雪松, 王万堂, 王蓉, 杨德仁, 皮孝东. 半导体碳化硅衬底的湿法氧化[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(2): 181-193. |
| [6] |
王维, 黄鸣, 常晓鱼, 张昊, 吴奇, 龙连春. 改进型单晶炉提拉系统偏心平衡研究[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(9): 1774-1779. |
| [7] |
王硕, 杨发顺, 马奎. 多次热氧化削减硅通孔内壁扇贝纹[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(6): 1131-1137. |
| [8] |
柯海鹏, 欧雪雯, 柯少颖. He离子注入对Ge中缺陷行为的影响研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(12): 2244-2251. |
| [9] |
马睿;王建彬;周超群;童勇强;徐义亮. 腐蚀法测量研磨蓝宝石亚表面损伤的实验研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(12): 2216-2221. |
| [10] |
陈国美;倪自丰;钱善华;刘远祥;杜春宽;周凌;徐伊岑;赵永武. SiC晶片不同晶面的CMP抛光效果对比研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(1): 155-159. |
| [11] |
汪已琳;任哲;赵志然;张威. 减压扩散高阻密栅技术应用研究[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(12): 2659-2662. |
| [12] |
杨超普;方文卿;杨岚;刘彦峰;李春;阳帆;韩茜;张美丽. MOCVD外延生长原位光致发光谱测量方法[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(11): 2316-2321. |
| [13] |
郭丽;武纹平;陈丽. 管式PECVD氮化硅薄膜不同退火环境的工艺研究[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(1): 231-234. |
| [14] |
魏也;周兵;桑胜波;邓宵;柴晶;陈泽华;张文栋. 粒子束注入单晶硅尺寸效应的机理研究[J]. 人工晶体学报, 2017, 46(6): 1064-1071. |
| [15] |
刘春梅;王洋;吴元庆;张金晶;姚素英;陆晓东;周涛. 应用于生物荧光检测的微流控芯片的研究[J]. 人工晶体学报, 2017, 46(6): 1160-1165. |
E-mail Alert
RSS