采用溶液沉积及快速退火制备LiMn2O4薄膜的研究

人工晶体学报 ›› 2009, Vol. 38 ›› Issue (1): 221-225.

采用溶液沉积及快速退火制备LiMn2O4薄膜的研究

吴显明;李润秀;何则强;陈上

吉首大学化学化工学院,吉首,416000;吉首大学化学化工学院,吉首,416000;中南大学化学化工学院,长沙,410083

出版日期:2009-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(20873054);湖南省教育厅自然科学基金(07B060)

Characterization of Solution-deposited LiMn2O4 Thin Films with Different Thickness Heat-treated by Rapid Thermal Annealing

WU Xian-ming;LI Run-xiu;HE Ze-qiang;CHEN Shang

Online:2009-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用溶液沉积及快速退火制备了不同厚度的LiMn2O4薄膜,用X射线衍射及扫描电子显微镜检测分析薄膜的物相及形貌;采用恒电流充放电及交流阻抗技术研究了LiMn2O4薄膜的电化学性质.结果表明,制备的LiMn2O4薄膜均匀,晶粒大小相近,晶粒尺寸在20～50 nm之间.经热处理后LiMn2O4薄膜断面清晰,薄膜与基片之间扩散很轻微.随着薄膜厚度的增加,薄膜的粗糙度减小,平整度变好.不同厚度的LiMn2O4薄膜的比容量介于42～47 μAh/(cm2·μm)之间,经50次循环后,薄膜的容量损失率从0.18 μm的0.64;上升到1.04 μm的9.0;,循环性能随着薄膜厚度的增加而变差.电化学阻抗测试表明不同厚度的LiMn2O4薄膜锂离子扩散系数差别不大,数量级为10-11cm2/s.

中图分类号:

TM912

吴显明;李润秀;何则强;陈上. 采用溶液沉积及快速退火制备LiMn2O4薄膜的研究[J]. 人工晶体学报, 2009, 38(1): 221-225.

WU Xian-ming;LI Run-xiu;HE Ze-qiang;CHEN Shang. Characterization of Solution-deposited LiMn2O4 Thin Films with Different Thickness Heat-treated by Rapid Thermal Annealing[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2009, 38(1): 221-225.

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