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人工晶体学报 ›› 2009, Vol. 38 ›› Issue (2): 354-357.

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射频溅射功率对ZnO透明导电薄膜光电性能的影响

陈肖静;王永谦;朱拓;李果华;张光春   

  1. 江南大学理学院,无锡,214122;尚德太阳能电力有限公司研发中心,无锡,214082;尚德太阳能电力有限公司研发中心,无锡,214082;江南大学理学院,无锡,214122;江苏省光伏工程技术中心,无锡,214082;江苏省光伏工程技术中心,无锡,214082
  • 出版日期:2009-04-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    江苏省高技术招标项目(BG2007002);江苏省六大人才高峰项目;信息产业部电子信息产业发展基金

Effects of the Sputtering Power on the Photoelectric Properties of ZnO Transparent Conductive Oxide Thin Films

CHEN Xiao-jing;WANG Yong-qian;ZHU Tuo;LI Guo-hua;ZHANG Guang-chun   

  • Online:2009-04-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用磁控溅射技术在不同溅射功率下制备了ZnO薄膜.研究了薄膜的沉积速率、光电特性以及不同功率条件下制备的ZnO薄膜对HIT电池开路电压的影响.结果表明:在溅射功率为200 W时制备的薄膜,具有良好的导电性和光透过性;将其应用到HIT电池中,得到的开路电压最高.该研究对提高HIT电池性能具有一定的参考意义.

关键词: 磁控溅射;ZnO薄膜;沉积速率;光电特性;HIT太阳电池

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