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人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (4): 867-871.

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新型MPCVD金刚石膜等离子发生器及等离子特性数值模拟

李晓静;于盛旺;张思凯;唐伟忠;吕反修   

  1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
  • 出版日期:2010-08-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(10675017);高等学校博士学科点专项科研基金资助课题(20060008013)

Numerical Simulation of Plasma in Novel Plasma Reactor for MPCVD Diamond Film

LI Xiao-jing;YU Sheng-wang;ZHANG Si-kai;TANG Wei-zhong;LV Fan-xiu   

  • Online:2010-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文提出了用于化学气相沉积金刚石膜的新型微波等离子体发生器.使用环形介质窗口,置于沉积台的下方而远离等离子体,允许产生体积较大并且温度较高的等离子体.采用时域有限差分法结合Matlab语言,模拟了发生器内的电场分布和等离子体电子密度,研究微波输入功率﹑气体压力等控制工艺参数对等离子体特性的影响.模拟结果表明,在一定微波输入功率和气体压力条件下,在沉积台上方形成均匀分布的等离子体,电场强度﹑电子密度和吸收功率密度随微波工艺参数的改变而呈现有规律的变化.本研究将为微波等离子体化学气相沉积技术的改进提供参考,为进一步建立使用此种新型等离子发生器的MPCVD设备奠定了基础.

关键词: 等离子反应腔;数值模拟;时域有限差分法;电子密度

中图分类号: