人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (4): 883-887.
鲁林峰;沈鸿烈;张娟;江丰;李斌斌;沈洲;刘恋慈
LU Lin-feng;SHEN Hong-lie;ZHANG Juan;JIANG Feng;LI Bin-bin;SHEN Zhou;LIU Lian-ci
摘要: 采用射频磁控溅射方法,在Si(111)和石英衬底上制备了Fe/Si亚层厚度比不同的多层膜.多层膜的总厚度为252 nm,Fe/Si亚层厚度比分别为1 nm/3.2 nm、2 nm/6.4 nm和20 nm/64 nm.在850 ℃, Ar气气氛中退火2 h后,Si衬底上的多层膜完全生成了β-FeSi2相.但石英衬底上同样Fe/Si亚层厚度比的多层膜除了生成β-FeSi2相,还生成了少量的ε-FeSi相.通过增加Si亚层的厚度至Fe/Si亚层厚度比为2 nm/7.0 nm,在石英衬底上也获得了单相的β-FeSi2薄膜, 其光学带隙为0.87 eV,表面均方根粗糙度为2.34 nm.
中图分类号: