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人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (4): 900-905.

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直流电弧等离子体区域电弧分布特征对自支撑金刚石膜性质的影响

李成明;王李梅;陈良贤;刘金龙;黑立富;吕反修   

  1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
  • 出版日期:2010-08-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家高技术研究发展计划(863)资助项目(2008AA03Z408)

Effect of Area Arc Distribution on Properties of Free-standing Diamond Films in DC Arc Plasma Jet Deposition

LI Cheng-ming;WANG Li-mei;CHEN Liang-xian;LIU Jin-long;HEI Li-fu;LV Fan-xiu   

  • Online:2010-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜时,电弧区域可分为弧心、弧干和弧边三个区域.本文运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱、正电子湮没寿命谱(PAL)和力学性能实验机研究了同一块自支撑金刚石膜不同区域的生长面形貌、晶体取向、内应力、空位缺陷和断裂强度.结果表明:随着与直流电弧等离子体弧心距离增加金刚石膜生长更稳定,(220)取向晶粒减少,平均空位缺陷减少,内应力和断裂强度呈现先增大后减小的趋势.

关键词: 直流电弧等离子体;区域电弧分布;自支撑金刚石膜

中图分类号: