沉积温度对BiFeO3薄膜结构和性能的影响

人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (6): 1396-1400.

沉积温度对BiFeO3薄膜结构和性能的影响

赵庆勋;魏大勇;王宽冒;马继奎;刘保亭;王英龙

河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

出版日期:2010-12-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(60876055;11074063;10774036);河北省自然科学基金(E2008000620;E2009000207;E2008000631);河北省应用基础研究计划重点项目(10963525D);高等学校博士点基金(20091301110002)

Effect of Deposition Temperature on the Structure and Properties of BiFeO3 Film

ZHAO Qing-xun;WEI Da-yong;WANG Kuan-mao;MA Ji-kui;LIU Bao-ting;WANG Ying-long

Online:2010-12-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用磁控溅射法制备SrRuO3(SRO)薄膜、脉冲激光沉积法制备BiFeO3(BFO),构架了Pt/SRO/BFO/SRO/SrTiO3(001)异质结,采用X射线衍射仪(XRD)、铁电测试仪研究了沉积温度对BFO薄膜结构和性能的影响.研究结果表明,随着温度的升高,BFO(001)和(002)衍射峰强度逐渐增强,BFO(110)和Bi2O3衍射峰强度逐渐减小,不同沉积温度下生长的样品都具有铁电性,在800 kV/cm的电场下,640 ℃下生长的BFO薄膜的剩余极化强度为65 μC/cm2.采用数学拟合的方法研究了Pt/SrRuO3/BiFeO3/SrRuO3/SrTiO3的漏电机理,结果表明BFO薄膜导电机理为普尔-弗兰克导电机理.

中图分类号:

O484

赵庆勋;魏大勇;王宽冒;马继奎;刘保亭;王英龙. 沉积温度对BiFeO3薄膜结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2010, 39(6): 1396-1400.

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