基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究

人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (2): 532-536.

基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究

李洪涛;蒋百灵;杨波;曹政

西安理工大学材料科学与工程学院,西安,710048

出版日期:2011-04-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
陕西省重点学科建设专项资金;西安理工大学优秀博士学位论文研究基金(101-210905)

Study on Microstructures of Pure Cr Films with Different Crystalline Deposited by Magnetron Sputter Ion Plating

LI Hong-tao;JIANG Bai-ling;YANG Bo;CAO Zheng

Online:2011-04-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 基于磁控溅射离了镀技术,制备了不同晶态结构的纯Cr薄膜,分析了电场环境对纯Cr薄膜品态结构影响的客观规律;结合溅射原理和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜生长过程影响的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化、非晶化进程中应有的功能,旨在为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据.

中图分类号:

TB43

李洪涛;蒋百灵;杨波;曹政. 基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(2): 532-536.

LI Hong-tao;JIANG Bai-ling;YANG Bo;CAO Zheng. Study on Microstructures of Pure Cr Films with Different Crystalline Deposited by Magnetron Sputter Ion Plating[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2011, 40(2): 532-536.

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