溅射环境下基片表面所受到的轰击能量研究

人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (3): 763-767.

溅射环境下基片表面所受到的轰击能量研究

李洪涛;蒋百灵;杨波;曹政

西安理工大学材料科学与工程学院,西安,710048

出版日期:2011-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
陕西省重点学科建设专项资金项目;西安理工大学优秀博士学位论文研究基金(101-210905)

Study on Bombardment Energy Received by Substrate Surface in Sputtering Enviromnent

LI Hong-tao;JIANG Bai-ling;YANG Bo;CAO Zheng

Online:2011-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 溅射环境下基于薄膜的沉积速率和Langmuir探针测出的基片位置处离子流通量量化了单位时间内基片表面微区所接受的溅射中性原子的轰击能量Ec1和各种轰击离子传递给基片的轰击能量Ec2;Ec1和Ec2的数量级近似相同,Ec1和Ec2同时作用于基片表面微区加速了薄膜沉积过程中最表层原子的表面扩散进程,Ec1和Ec2持续作用所引起的能量积淀和温升效应可促进薄膜表层下方原子的体扩散进程.

中图分类号:

O484

李洪涛;蒋百灵;杨波;曹政. 溅射环境下基片表面所受到的轰击能量研究[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(3): 763-767.

LI Hong-tao;JIANG Bai-ling;YANG Bo;CAO Zheng. Study on Bombardment Energy Received by Substrate Surface in Sputtering Enviromnent[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2011, 40(3): 763-767.

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