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人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (4): 1027-1032.

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Cu掺杂硅量子点的电子结构和光学性质

梁伟华;王秀丽;褚立志;丁学成;邓泽超;王英龙   

  1. 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002
  • 出版日期:2011-08-15 发布日期:2021-01-20

Electronic Structures and Optical Properties of Cu-doped Silicon Quantum Dots

LIANG Wei-hua;WANG Xiu-li;CHU Li-zhi;DING Xue-cheng;DENG Ze-chao;WANG Ying-long   

  • Online:2011-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用基于密度泛函理论的第一性原理的方法,对Cu掺杂H钝化硅量子点的形成能、态密度、磁性和光学性质进行了计算,考虑了Cu占据硅量子点替代和间隙的不同位置.结果表明:Cu趋向占据硅量子点表面的六角形间隙位置.Cu掺杂硅量子点引入了杂质能级,带隙变窄.由于Cu的d态p态和Si的p态耦合,导致Cu替代掺杂硅量子点具有铁磁性,且在低能区出现了一个较强的吸收峰.

关键词: 硅量子点;第一性原理;态密度;磁性;光学性质

中图分类号: