混合环境气体配比对纳米硅晶粒角度分布的影响

人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (3): 670-674.

混合环境气体配比对纳米硅晶粒角度分布的影响

翟小林;王英龙;丁学成;邓泽超;褚立志;傅广生

河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

出版日期:2012-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家重点基础研究专项基金(2011CB612305);国家自然科学基金资助项目(10774036);河北省自然科学基金资助项目(E2011201134;E2012201035);河北省光电材料重点实验室资助项目;河北大学自然科学基金资助课题

Influence of the Mixture Gases Ratio on the Angular Distribution of Silicon Nanoparticles

ZHAI Xiao-lin;WANG Ying-long;DING Xue-cheng;DENG Ze-chao;CHU Li-zhi;FU Guang-sheng

Online:2012-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 为了研究混合环境气体配比对脉冲激光烧蚀制备纳米硅(Si)晶粒角度分布的影响,采用XeCl准分子激光器,烧蚀高阻抗单晶Si靶,改变混合环境气体配比(He/Ar =41、1∶10、1∶1、1∶4、1∶2),在半圆环衬底上成功制备了一系列纳米Si晶薄膜.使用扫描电子显微镜(SEM)图像、X射线衍射谱(XRD)和拉曼光谱(Raman)对其进行表征分析.结果表明,在五种配比下,纳米Si晶粒的平均尺寸均随着偏离羽辉轴向夹角的增大而减小；各个角度处,纳米Si晶粒的平均尺寸均随着混合环境气体平均原子质量的增加而呈现先减小后增大的趋势.从传输动力学角度,对结果进行了定性分析.

中图分类号:

O731

翟小林;王英龙;丁学成;邓泽超;褚立志;傅广生. 混合环境气体配比对纳米硅晶粒角度分布的影响[J]. 人工晶体学报, 2012, 41(3): 670-674.

ZHAI Xiao-lin;WANG Ying-long;DING Xue-cheng;DENG Ze-chao;CHU Li-zhi;FU Guang-sheng. Influence of the Mixture Gases Ratio on the Angular Distribution of Silicon Nanoparticles[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2012, 41(3): 670-674.

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