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人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (4): 1102-1106.

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放电过程对碳纳米管膜场发射性能的影响

樊志琴;李瑞;蔡根旺;张君德;王建星   

  1. 河南工业大学理学院,郑州,450001
  • 发布日期:2021-01-20

Effect of Discharge Process on Field Emission Properties of Carbon Nanotubes Film

FAN Zhi-qin;LI Rui;CAI Gen-wang;ZHANG Jun-de;WANG Jian-xing   

  • Published:2021-01-20

摘要: 利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜.研究碳纳米管膜在放电过程中对其场发射性能的影响.通过XPS、Raman光谱等手段,分析碳纳米管膜在放电过程中sp2碳和sp3碳含量的变化,对碳纳米管膜场发射性能变化的根源进行研究.结果显示,在放电过程中,碳纳米管膜中sp2碳的含量减少,场发射性能变差.经过分析,我们认为发生这种现象的原因是:发射电子主要是从sp2碳发出的,sp2碳的减少直接影响了发射电子的减少,故其场发射性能降低.

关键词: 碳纳米管;MPCVD;场发射;拉曼光谱

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