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人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (5): 1153-1157.

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Ni2+对KDP晶体生长及缺陷影响的研究

柴向旭;王波;王圣来;孙洵;顾庆天;丁建旭;李毅平;许心光   

  1. 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
  • 出版日期:2012-10-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    高等学校博士学科点专项科研基金资助课题(20090131120035);山东大学自主创新基金资助(2010TS067)

Study on the Effects of Ni2+ on the Growth and Defects of KDP Crystals

CHAI Xiang-xu;WANG Bo;WANG Sheng-lai;SUN Xun;GU Qing-tian;DING Jian-xu;LI Yi-ping;XU Xin-guang   

  • Online:2012-10-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用传统降温方法生长了不同Ni2+掺杂浓度的KDP晶体.实验发现当Ni2+掺杂浓度小于1000 ppm时溶液的稳定性随着掺杂浓度的增加而提高,大于1000 ppm时溶液的稳定性开始下降,但仍高于纯态溶液的稳定性;随着Ni2+浓度的增加KDP晶体柱面的生长死区增加,柱面的生长速度略有下降,但在生长过程中没有观察到晶体的楔化;KDP晶体的XRD分析及缺陷的研究表明Ni2+对晶体的结构影响不明显,但晶体中的缺陷和内应力增加.

关键词: KDP晶体;溶液稳定性;缺陷;内应力

中图分类号: