磁控溅射参数对(Ba,Sr)TiO3薄膜择优取向生长的影响

人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (1): 52-57.

磁控溅射参数对(Ba,Sr)TiO3薄膜择优取向生长的影响

王梦;张发生;刘根华;于军

中南林业科技大学计算机与信息工程学院,长沙,410004;华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074

出版日期:2013-01-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(60971008)

Effect of RF-magnetron Sputtering Parameters on the Growth of (Ba, Sr) TiO3 Thin Film with Preferred Orientations

WANG Meng;ZHANG Fa-sheng;LIU Gen-hua;YU Jun

Online:2013-01-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了(Ba,Sr)TiO3薄膜.基于薄膜的形核理论,研究了溅射气压、靶基距、衬底温度和溅射功率等溅射参数对(Ba,Sr) TiO3薄膜择优取向生长的影响.实验结果表明:磁控溅射中,较高衬底温度(600℃)有助于钙钛矿成相；通过改变磁控溅射参数,能得到(111)、(001)、(110)择优取向的薄膜.

中图分类号:

O484

王梦;张发生;刘根华;于军. 磁控溅射参数对(Ba,Sr)TiO3薄膜择优取向生长的影响[J]. 人工晶体学报, 2013, 42(1): 52-57.

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