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人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (3): 502-507.

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Ni2+掺杂氧化锌阵列膜的水热合成及性能表征

徐晓雷;贺旭涛;符小艺;何新华   

  1. 华南理工大学材料科学与工程学院,广州,510640
  • 出版日期:2014-03-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广东省科技计划项目(2007A010500012);国家自然科学基金(21103052)

Hydrothermal Synthesis and Performance Characterization of Ni2+ Doped ZnO Array Films

XU Xiao-lei;HE Xu-tao;FU Xiao-yi;HE Xin-hua   

  • Online:2014-03-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用低温水热法制备了Ni2+掺杂的ZnO阵列膜,研究了Ni2+掺杂对样品形貌、晶相结构和光谱特性的影响,并对可能的影响机理进行探讨.结果表明:Ni2浓度增加不会改变ZnO的纤锌矿结构,但在一定程度上可以起到控制其形貌及均匀度的作用.Ni2+掺杂量x≤0.007 mol/L时,有助于ZnO纳米棒沿c轴方向生长,提高结晶度,但ZnO的生长机理保持不变.Ni2+掺杂量较多时(x >0.007 mol/L),ZnO纳米棒的生长习性发生变化,其六方结构被破坏,水热膜由垂直于基片表面排列的纳米棒阵列转变为由结构不规则的多边形晶粒组成的密堆积排列.由于Ni2+固溶入ZnO晶格产生晶格畸变,引起薄膜内应力以及载流子浓度的变化,使得ZnO拉曼光谱的特征峰出现明显的降低和移动.光致发光谱表明,Ni2掺杂使ZnO纳米棒的紫外发光峰强度IUV与绿光发光峰强度IGR之比值IUV/IGR增大.

关键词: ZnO阵列膜;水热法;择优取向

中图分类号: