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人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (3): 631-635.

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工艺参数对飞秒激光沉积硅基ZnO大面积均匀薄膜性能的影响

杨义发;江超   

  1. 湖北师范学院物理与电子科学学院,黄石,435002
  • 出版日期:2014-03-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    湖北省教育厅项目(B20112501)

Influence of Process Parameters on the Properties of Large Area Uniformity ZnO Thin Films Deposited on Silicon Substrate by Femtosecond Laser

YANG Yi-fa;JIANG Chao   

  • Online:2014-03-15 Published:2021-01-20

摘要: 研究了衬底温度、真空度、激光能量、激光脉冲频率及退火处理对飞秒激光制备硅基ZnO大面积均匀薄膜的结构和性能的影响.结果表明,当激光能量为1.5mJ、脉冲频率为400 Hz、真空度为1.0 mPa、衬底温度为80℃时,所制备的薄膜质量最佳.薄膜呈高度c-轴取向,为典型的六方纤锌矿结构,晶粒沿垂直于衬底表面的方向生长;当衬底温度高于80℃时,随着温度的升高,c-轴取向度降低.80℃制备的薄膜在可见紫外区域透过率达98;,电阻率随温度升高而减小,退火后薄膜的透过率增大、电阻率升高.

关键词: 飞秒激光;氧化锌;透过率;电阻率

中图分类号: