摘要： 针对SiHCl3-H2体系下硅的化学气相沉积过程,采用边界层反应模型和Chemkin模拟软件,耦合不同气相与表面化学反应机理,对不同条件下硅的沉积速率,高温下HCl气体对硅表面的侵蚀速率进行了模拟计算.与文献报道的三组实验数据进行对比,验证现有反应机理的模拟精度,确定一套修正化学反应机理可以较为准确地预测工业级西门子多晶硅还原炉条件下多晶硅的沉积速率.
中图分类号:
倪昊尹;陈彩霞. 多晶硅化学气相沉积过程气相与表面反应模拟验证[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(11): 3083-3089.
NI Hao-yin;CHEN Cai-xia. Numerical Validation of Gas and Surface Reactions for the Polysilicon Chemical Vapor Deposition Process[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2015, 44(11): 3083-3089.
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