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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (2): 329-336.

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热屏位置影响直拉单晶硅熔体和固液界面的模拟

关小军;张向宇;潘忠奔;王进;曾庆凯   

  1. 山东大学材料科学与工程学院,济南250061;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东交通学院航空学院,济南,250357
  • 出版日期:2015-02-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    山东大学晶体材料国家重点实验室开放课题(KF1303)

Simulation on Effect of Heat Shield Position on the Melt and Solid Liquid Interface Cz Silicon

GUAN Xiao-jun;ZHANG Xiang-yu;PAN Zhong-ben;WANG Jin;ZENG Qing-kai   

  • Online:2015-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 为了研究热屏位置对于直拉单晶硅的熔体和固液界面的影响,采用CGSim有限元软件对φ200 mm直拉单晶硅生长过程进行了模拟,结果表明,随着热屏底端位置上升(或径向内移),熔体自由表面及其邻近区域的温度下降;随着热屏底端位置径向内移,位于两个大涡胞之间的较小涡胞强度增大且移向熔体液面深处;热屏位置上升或径向外移均会使固液界面上凸程度增大,这主要归因于晶体热场的相应变化.

关键词: 直拉单晶硅;有限元;热屏位置;流场;温场;固液界面

中图分类号: