摘要： 采用射频磁控溅射法在不同Ar气流量条件下制备了多组微晶硅薄膜,研究了Ar气流量对薄膜微观结构及光/电学性能的影响.结果表明:当Ar气流量的较小时,微晶硅薄膜的沉积速率较高,薄膜的晶化率、晶粒尺寸以及粗糙度处于较好的生长态势.同时,薄膜的光学性能发生明显变化,对于长波长范围内薄膜的光学透过率随Ar气流量的增大逐渐下降.薄膜的电学性能表现为随Ar气流量的增大,少子寿命呈现出先增大后大幅降低的变化趋势.
中图分类号:
乔泳彭;蒋百灵. Ar气流量对磁控溅射制备微晶硅薄膜微观结构及光/电学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(2): 361-367.
QIAO Yong-peng;JIANG Bai-ling. Influence of Ar Flow Rates on the Microstructure and Optical/Electrical Properties of μc-Si Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2015, 44(2): 361-367.
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