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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (7): 1975-1982.

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蓝宝石基GaN薄膜热疲劳分析

王小增;杨久红   

  1. 嘉应学院电子信息工程学院,梅州,514015
  • 出版日期:2015-07-15 发布日期:2021-01-20

Analysis of Thermal Fatigue in GaN Thin Films on Sapphire

WANG Xiao-zeng;YANG Jiu-hong   

  • Online:2015-07-15 Published:2021-01-20

摘要: 首先建立了数值模型分析工作中LED芯片的界面剪应力,根据线性累积损伤理论、GaN薄膜和Al2O3衬底的S-N曲线及随季节变化的载荷谱,确定了GaN薄膜的疲劳损伤系数.分析了温度载荷、芯片尺寸、衬底和薄膜厚度对薄膜热疲劳的影响.GaN薄膜和Al2 O3衬底的S-N曲线为单对数线性关系.LED芯片应力谱分析表明夏季交变应力载荷最大,春秋次之,冬季最小.GaN薄膜剪应力数值和理论解相差6.3;,建立的数值模型可用于LED芯片疲劳寿命分析.LED芯片寿命主要由GaN薄膜决定.GaN薄膜的最大剪应力和疲劳损伤系数随薄膜厚度和温度载荷增加,与芯片尺寸和衬底厚度无关,衬底的疲劳损伤系数不随上述因素变化.数值模型预测LED芯片疲劳寿命接近标称的LED灯具寿命.

关键词: GaN薄膜;Al2O3衬底;剪应力;疲劳损伤系数;S-N曲线

中图分类号: