摘要: β-Ga2O3薄膜因其禁带宽度大,稳定性高,生产成本低等优势,被认为是在光电探测器、发光器件等领域非常有前景的材料之一.但β-Ga2O3较低的导电率限制了其在某些领域的应用,通过掺杂技术改进β-Ga2O3薄膜在光学和电学的性能吸引了大量科研者的目光.本文介绍了几种常用的掺杂手段及掺杂对β-Ga2O3薄膜结构和光电特性的影响,并对以后的研究工作进行了展望.
中图分类号:
张浩;邓金祥;白志英;潘志伟;孔乐. β-Ga2O3薄膜掺杂工艺及性能研究进展[J]. 人工晶体学报, 2017, 46(9): 1683-1690.
ZHANG Hao;DENG Jin-xiang;BAI Zhi-ying;PAN Zhi-wei;KONG Le. Research Progress on Doping Process and Properties of β-Ga2 O3 Thin Film[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2017, 46(9): 1683-1690.